半導體擴散片生產過程中會產生大量的清洗廢水，對環境污染大，需要經過半導體擴散片生產廢水處理系統的處理之后達標排放。下面漓源環保為您介紹一種應用在此類廢水處理中的系統。

在半導體擴散片生產廢水處理系統中設置依次連接的集水池、PH調節池和助凝沉淀池，其中，助凝沉淀池中的上層清液依次抽至催化氧化池、水解酸化池、接觸氧化池和回用收集池， 助凝沉淀池底部污泥依次抽至污泥濃縮池和污泥壓濾機。

在半導體擴散片生產廢水處理中在助凝沉淀池中加入水處理藥劑，藥劑為聚丙烯酰胺，陽離子型，分子量800萬，投加量15-20ppm，將泥水進行分離，分離后的上清液進入后續的催化氧化池內。

催化氧化池內進行生化處理，這里采用臭氧-雙氧水聯合催化氧化技術，臭氧投加量為20mg/L，雙氧水投加量為3-5mg/L，催化氧化提高了廢水生化性。

催化氧化后進入水解酸化池，廢水在水解池通過水解酸化作用，大分子的有機物被水解成易于被后續好氧菌所降解的小分子有機物，從而使污水的可生化性和生化去除效果大幅度提高，使得好氧段有較高的COD去除率。水解酸化池內需要投加氮、磷等營養，氮以尿素形式，磷以磷酸氫二鈉、磷酸二氫鈉等形式，BOD:N:P=300～400:5:1。

水解酸化池出水子流入接觸氧化池內，利用好氧微生物的作用，降解污染物。接觸氧化采用泥膜混合，提高生物量，豐富生物組，處理效果穩定，出水穩定達標。

經上述半導體擴散片生產廢水處理系統的處理之后出水可實現達標，作為雜用水回用，節約水資源。如果您對半導體擴散片生產廢水處理還有什么疑問，歡迎咨詢漓源環保工程師。

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