今天離源環保給大家介紹一下芯片生產廢水處理，集成電路芯片制造生產工藝復雜，包括硅片清洗、化學氣相沉積、刻蝕等工序反復交叉，生產中使用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3?H2O等。將芯片生產廢水處理分為：含氨廢水處理系統、含氟廢水處理系統、CMP研磨廢水處理系統及酸堿廢水處理系統。

含氨廢水有兩部分，一部分是濃氨氮廢水，主要含氨氮和雙氧水，氨氮濃度達400～1200mg/L;另一部分是稀氨廢水，主要含氟化氨，氨氮濃度低于100mg/L。

工藝中采用CaCl2溶液代替傳統去氟采用的消石灰，可減少氟化鈣污泥量、原料用量和堿液，同時，可避免粉態消石灰的逸散，防止管道堵塞，易于控制投加量，確保系統的穩定高效運行。

CMP研磨廢水處理系統

研磨廢水處理與含氟廢水處理很相近，若從節省投資的角度考慮，可以采用同一系統同時處理含氟和CMP研磨兩股廢水，否則，將增加額外的投資。

當今時代芯片生產廢水嚴重的污染的水資源及環境，有效的芯片生產廢水處理已刻不容緩。

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