今天給大家介紹電子廠電鍍廢水處理工藝，電子廠電鍍廢水處理工程中廢水主要為電鍍工藝的生產廢水，主要為軟化清洗廢水，產量0.5m3/h；清洗烘干廢水，產量0.1m3/h；退錫烘干廢水，產量0.1m3/h。軟化清洗廢水主要含有單乙醇胺；清洗烘干廢水主要含有錫；退錫烘干廢水主要含有硫酸和鹽酸。主要污染指標為硅、油類、SS、COD、BOD、氮、錫、氯離子等，水質復雜、污染物濃度較高，若直接排放將對周圍環境造成污染。

電子廠電鍍廢水處理工程中該廢水水量小、水質復雜，含COD、BOD、SS、氮、錫等，COD約1000mg/L，將此類廢水一并處理，即處理量為0.7m3/h。經處理后廢水達到《山東省南水北調沿線水污染物綜合排放標準》（DB37/599-2006）中的重點保護區域標準及修改單（魯質監標發[2016]46號）。各項指標為pH6-9，化學需氧量（COD）50mg/L，五日生化需氧量（BOD5）10mg/L，懸浮物20mg/L，NH3-N  5mg/L,總氮15mg/L。

軟化清洗廢水、清洗烘干廢水、退錫烘干廢水水量雖然少，但污染物濃度高，若每股廢水分開處理，由于水量過低，反而增加處理成本，因此建議先對廢水pH值進行調節，投加藥劑沉淀除去水中的金屬粒子與懸浮物，生化工藝采用我司改造的“簡易UASB”加上經濟成熟的AO（缺氧+好氧），有機物降解速率快，工程造價低，配合MBR膜過濾出水，對懸浮物、濁度等指標去除效果良好，能使出水效果有保證。

電子廠電鍍廢水處理工程中廢水由調節池經提升泵提升進入反應池，投加藥劑生產可沉淀的污泥，經沉淀池沉淀后上清液自流到中轉池，中轉池廢水泵入UASB反應池。在UASB反應池中，經顆粒污泥的高效降解作用，并在產甲烷菌作用下，將污水中的大部分有機物分解成二氧化碳和甲烷，去除大部分的有機污染物，降低后續好氧處理的有機負荷。

A/O工藝由缺氧及好氧單元組成，由于污泥回流的影響，缺氧池和好氧池中均含有硝酸氮。在缺氧池中，反硝化細菌利用原水中有機碳將回流混合液中的硝酸氮還原。缺氧池的出水進入好氧池，在好氧池中發生含碳有機物的氧化降解，同時進行含氮有機物的硝化反應，使有機氮和氨氮轉化為硝酸氮。好氧池的處理出水又回流到缺氧池，廢水中的硝酸氮進一步被還原為氮氣，降低出水中的總氮量。出水自流到MBR池，MBR中的微濾膜孔徑只有0.1微米，能有效的除去水中膠體和懸浮雜質，使出水澄清，達標排放。

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