今天給大家介紹一下半導體工藝廢水之處理方法，提供一種含有氧化劑、有機物、無機物、及氨氮等雜質并由數股半導體工藝廢水匯集而成的綜合廢水的處理方法，并可包含NH4OH淋洗廢水處理、TMAH (四甲基氫氧化銨)黃光工藝廢水處理、或NH4F/F_廢水處理等個別處理。

水的回收再利用在目前氣候異常變遷的時代對高耗水工業成為必須的方案；工廠對外來的水源依賴必須大幅度的降低，以降低生產上不確定的因素。水回收率高解決了生產上不確定因素的問題，但也產生另一個議題環保排放超標問題。工廠使用的化學藥品量是固定的，一旦水的回收率高，導致排放的水量減少；相同的化學藥品用量造成了廢水排放濃度過高的問題，因而超標。

針對環境的議題，環保的單位也針對一些因新研究結果 而發現對環境有不好影響的物質加以嚴格管制，諸如氨氮、總氮(TN)、總磷(TP)。還有一些放流水質標準雖已有管制，但在未來仍可能需要更嚴格的管制，諸如生化需氧量(BOD)、化學需氧量(C0D)、及懸浮固體(SS)。

半導體工業廢水所含污染物的種類復雜(含有機、無機、氧化物、氨氮及氟化物等)，目前的半導體廠對于水處理的策略是先將經工藝使用過的水進行精準的分類，目前極端的作法是將其分作22類廢水。

含雜質濃度較低的直接收集回收作水源；有的雜質高一點的經R0、離子交換或混凝沉淀處理后再回收用作為水源；其余的水就直接作廢水排放?，F行半導體廠的廢水排放是半導體廠內部不同工藝廢水逐步匯集成為一至三股大量復雜性廢水，再匯集成一股排出工廠。這幾股大量廢水或上游小量體系的廢水名稱眾多紛擾，但大都依其水質內容物被命名如下，諸如綜合廢水、NH4F/F_廢水、F—廢水、高濃度氨氣淋洗廢水、淋洗廢水、TMAH黃光廢水、臭氧洗凈水、純水系統反洗水等。由于各家電子產品工藝不同、所使用之藥品不同，加上在建廠時規劃前段廢水回收情況和工藝廢水水質分類不同，故各廠各大量及小量體系廢水的組成、水質的變化相當大。

半導體工藝廢水匯集成的綜合廢水的處理方法，該綜合廢水不含NH4F/HF緩沖的氧化物蝕刻液，而基本上含有氧化劑、有機物、無機物、及氨氮雜質。首先對該綜合廢水進行去氧化劑處理；接著以無氧微生物分解方式進行處理，使其中所含的雜質被部份分解；再以有氧微生物分解方式進行處理，使殘留于其中的有機物及氨氮被進一步分解，而得到可回收或排放的廢水。進一步包含對NH4OH淋洗廢水、TMAH黃光工藝廢水、或NH4F/F-廢水進行個別處理的步驟，及將此等個別處理所得到廢水整合于該綜合廢水的處理方法。

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